当社連結子会社の株式会社ホロン（本社：東京都立川市、代表取締役：張 晧、以下、「ホロン」）は、収差補正SEMを活用したフォトマスク欠陥修正技術に関する研究成果を、2026年９月８日から11日に米国カリフォルニア州モントレーで開催されているフォトマスク技術分野の国際学会「SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography 2026」において発表いたしました。

今回の発表では、フォトマスク欠陥修正における各種性能評価を実施し、実用性を確認した研究成果を報告いたしました。ホロンでは、CD-SEMで培ってきた電子光学技術を応用し、収差補正機能を備えたSEMカラムを搭載したフォトマスク欠陥修正装置の開発を進めており、今回の発表は当該開発において得られた研究成果の一部を示すものです。

近年、フォトマスク欠陥修正技術は、フォトマスクの歩留まり向上において重要な役割を担っており、リソグラフィ性能向上を目的とした曲線パターン（Curvilinear Pattern）の採用拡大などを背景として、より高い修正精度や形状忠実性が求められています。

今回の研究成果の概要および当該技術の技術的背景は、当社ＨＰに掲載しているリリースをご参照ください。
https://andholon.com/wp-content/uploads/2026/09/news_20260910_jp.pdf

当社グループは今後も、電子ビーム応用技術のさらなる高度化を通じて、半導体関連分野における新たな価値創出に取り組んでまいります。



■ 株式会社ホロンについて（Webサイト：https://www.holon-ltd.co.jp/）
ホロンは、電子ビーム技術を活かし、半導体及びナノテクノロジー分野への寸法測定・欠陥レビュー技術を提供しております。フォトマスクの観察・計測で培ったノウハウを活用し、超微細加工されたHDD/MEMS/ナノインプリントなどの分野へ装置を開発、販売しています。



お問い合わせ先
株式会社Ａ＆Ｄホロンホールディングス
経営企画部　広報IR課
TEL：03-5391-6124